24H直播

國科會首創半導體檢測技術 有助加速先進製程研發

發布時間: 更新時間:
AI帶動高效能、低功耗晶片需求,半導體製程加速邁向埃米世代。國科會成功開發全球首創的臨場剖面掃描顯微檢測技術,可即時觀測二維半導體與金屬接觸界面,突破過去只能間接量測的限制。研究團隊表示,距離大規模產業應用仍有一段路,但有助加速先進製程研發。

AI浪潮推升高效、低功耗晶片需求,半導體微縮成為科技競爭關鍵。台積電2奈米製程已進入量產階段,國科會也透過「Å世代前瞻半導體技術專案」,推動首創的臨場剖面掃描顯微檢測技術,突破二維半導體電晶體測試瓶頸。

台灣大學物理學系教授邱雅萍指出,「利用探針找到了關鍵接觸,也就是金屬跟半導體接觸邊緣的地方,去找我們要的一個檢測的位置,這就如同在接觸邊緣的地方,你架了一個高解析度的攝影機。」

台灣首創「臨場剖面掃描顯微半導體檢測技術」,可即時觀測半導體元件運作時的微觀結構,提升次世代電晶體研發與檢測能力。

新加坡大學材料科學與工程學系教授李連忠認為,「以前大家在估算轉移長度都是用理論,而且這個實驗就是間接的方法去得到的量電,然後得到間接的數據,但是這個是第一次可以實驗上面量到的,所以這對半導體工業在發展的時候很有影響力。」

即使是在加熱、加偏壓的情況下,依然可以有效觀測,加速微縮研發。外界好奇,什麼時候能真正運用在產業界?學者坦言,目前要達到業界期望的測試規模還有一段路,不過有機會達成1年500片的量能。

國科會自然科學及永續研究發展處長賴明治說明,「未來我們每一年大概都會有9100多萬去延續資金,從金創計畫延續下去。」

團隊強調,從檢測技術開發、方法建立到驗證,都是由台灣研究團隊主導完成,展現了台灣在尖端半導體關鍵量測技術領域的自主研發能量,以及國際領先實力。

您的參與,
讓公共服務更完整!
閱讀、按讚,就能客製您的專屬推薦新聞
本網站使用 Cookie 技術提升體驗,詳見服務條款。繼續瀏覽即代表同意上述規範。